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4G视音频执法记录仪Y1
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4G视音频执法记录仪Y1

QC-IQCY1系列4G视音频执法记录仪符合GA/T 947.2-2015单警执法视音频记录系统标准，具备业内最高防护等级IP68，2米抗跌摔，利用3G/4G网络，可对执法过程进行动态、静态记录，实现数据上传、执法取证、视频会议等功能，适用于交警、城管、市场监督、环保监察等多种移动执法场景。
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006
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资质荣誉 生产实力
Product description
Parameters
技术参数表
系统组网
标准选配件
应用领域

· 深度定制Android 8.1操作系统，人性化操作界面

· H.264 / H.265编码1080P/720P高清录像

· 超大可拆卸4000mAH电池，支持高分辨率下8小时连续摄录

· 独特三摄像头设计，满足摄录、拍照、微距三种拍摄需求

· 3.5寸高清电容IPS触摸屏，优异5点触控功能体验

· 北斗+GPS双模定位，有效提高定位精准度

· 支持4G/5G移动网络和WIFI网络无线传输

· IP68防护等级，2米抗跌落、8级防水、6级防尘

· 业内最高标准长距离红外夜视，3米识人脸，5米识轮廓

· 独特顶部出音设计，低音频过滤，保证入耳最大响度

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项目

技术参数

图像传感器

Android 8.1

最低照度

四核，主频1.5GHz

变焦倍数

RAM≥2GB，ROM≥16GB

夜视距离

3.5英寸，IPS全视角，触摸屏

云台

支持光敏传感器、光感传感器、距离传感器、3D加速度传感器等

视频编码

录像键、拍照键、紧急报警键、对讲键、录音键、重点标记键等

视频分辨率

Micro USB接口,支持充电及定制USB耳机

音频编码

支持

喇叭

主镜头400W，副摄像头 1300W，前置镜头200W

拾音器

H.264

网络协议

1920*1080，1280*720，640*480

无线网络

AMR/AAC/G.711，内置消噪麦克风和1.5W双喇叭

Wi-Fi

支持TCP/IP,HTTP,DHCP,DNS,RTP/RTCP,RTSP,PPPOE

蓝牙

4G全网通，向下兼容3G/2G

显示

支持

存储

支持

定位

扩展TF卡存储，最大支持128G

AI特性

 北斗+GPS双模定位

其他AI特性

红外灯、红蓝爆闪灯、闪光灯、激光定位灯

接口协议

3米识人脸，5米识轮廓

供电方式

锂电池供电(5V/2A）

安装方式

4000mAh可更换锂电池，内置倍率电池，换电不间断

防护等级

IP68

工作环境

温度-30℃~+55℃，湿度93%

重量尺寸

197g（裸机）；尺寸108*66*27mm

Previous
None
Next
None

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Simulate the MEMS thick-resist physical lithography process, and use the physical simulation algorithm and physical model to accurately reflect the SU8 and other thick-resist lithography effects. ◆ Support the four-step simulation of image forming, exposure, post-baking, and development; ◆ Precise lighting model before and after exposure; ◆ Support multi-layer mask file layout settings; ◆ Support fine measurement of 3D display results.

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FabSim

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精准的三维工艺物理模拟工具。 ◆ 模拟工艺流程生成的器件的三维模型,动画形式显示工艺过程； ◆ 支持绝大多数MEMS工艺仿真，包括：各向同性/异性淀积，各向同性/异性刻蚀，湿法刻蚀，键合，光刻以及CMOS工艺中的氧化/注入等； ◆ 高精度模式和快速模式两种仿真模式可选； ◆ Si DRIE和湿法各向异性刻蚀算法源自成熟的单工艺仿真算法模块，历经丰富的实践验证； ◆ 支持III-V族半导体(InP)等多种化合物半导体物理仿真工艺. ◆ 支持spray准各向同性湿法刻蚀工艺 ◆ 基于GPU大规模并行计算 ◆ 采用体素绘制技术，支持旋转、平移、缩放、剖面等功能 ◆ 支持按工艺分层显示，方便观察器件内部结构信息； ◆ 支持PPT、AVI、JPG等多种格式输出。

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Powerful process demonstration tool based on 3D voxel manipulation. ◆ Display the technological process in the form of animation; ◆ Simulate the 3D model of the device after any process step; ◆ Support most MEMS process simulations, including: isotropic/anisotropic deposition, isotropic/anisotropic etching, wet etching, bonding, photolithography, and oxidation/implantation in CMOS processes; ◆ Using voxel graphics technology, more realistic demonstration of three-dimensional complex device structure; ◆ Using volume rendering technology, users can view the internal information of the device through functions such as rotation, translation, zoom, and section; ◆ Use geometric algorithms to simulate deposition and etching processes more realistically;

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The advanced, automatic control-based unit etching simulation technology can obtain accurate <100>, <110> single crystal silicon wafer KOH and TMAH anisotropic etching simulation results, and can also be used for complex layout and long-term etching. ◆ Top, bottom and double-sided etching of wafers; ◆ Multiple cut-off layers and multiple etchings of different masks on a single wafer; ◆ Reflect the impact of misaligned masks, and compensation techniques; ◆ Predict the influence of etchant temperature, concentration and etching time on device shape; ◆ TMAH and KOH etching rate database, users can also customize the etching rate; ◆ To measure the effect of vertical etching in the case of coupled anisotropic etching; ◆ Three-dimensional graphics and cross-section visualization; ◆ Measure the distance and angle between any two points of the wafer after etching;

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