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一体化5G车载取证系统MVR-JD
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一体化5G车载取证系统MVR-JD

QC-MVR-JD系列一体化车载取证系统是一款针对警用执法、应急指挥开发的专用智能终端，集图像采集、视音频编码传输、GPS/北斗定位等技术于一体，通过4G/5G无线网络将数据传输到后台监控中心，实现高清视频传输、双向语音对讲、智能识别、录像存储等功能，适用于车载巡逻监控、执勤执法等移动场景。
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016
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资质荣誉 生产实力
Product description
Parameters
技术参数表
系统组网
标准选配件
应用领域

· 灯罩采用进口PC材质，表面辅以UV工艺镀膜强化，有效抵抗紫外线;

· 底盘采用优质铝合金型材，坚固耐用;

· 光源采用大功率LED模组，环保节能，光效高，警示效果强;

· 采用20倍(30倍可选)高清可变焦摄像机芯，实现对现场的高清视频采集;

· 水平全向云台设计，实现360°无死角监控

· 双TF卡存储，单张最大支持256GB

· LCD显示屏设计，可指示网络拨号、GPS信号、电池容量等信息

· 内置全网通4G网络模块/全国通5G网络模块，支持双卡绑定传输

· 支持GPS+北斗双模定位，实现拍摄信息及移动终端的精准定位

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项目

技术参数

警灯

视频编码

H.265/H.264

视频分辨率

1920*1080 ，1280*720，704*576

音频编码

AMR/G.711/AAC

红外

4颗红外灯，红外距离100米

云台

水平360°，0-150°/s；垂直-15°-90°，0-10°/s；预置位255

存储

双TF卡存储，单张最大256G

定位

支持GPS+北斗双模定位

网络接口

可扩展1个RJ45接口10M/100M/1000M自适应

网络协议

支持TCP/IP,HTTP,DHCP,DNS,RTP/RTCP,RTSP,PPPOE

无线网络

5G/4G/3G全兼容

Wi-Fi

支持，可使用移动端进行操作

显示

OLED显示屏，显示4G/5G/WIFI网络、连接平台、蓝牙连接等状态显示

AI特性

支持人脸识别、车牌识别

球机

电压功率

DC12V/24V，≤70W

发光频率

1～3Hz

发光强度

二级

工作噪音

≤55db

材质

灯罩材质：PC；底盘材质：铝合金

执行标准

GB13954-2009

控制方式

警报器（分体式/一体式）

使用温度

-40℃～75℃

警灯长度

标准款1180mm，加长款1450mm

重量

17.5kg

本款警灯性能优越，安装使用方便，适合警用巡逻车、交警执法车、消防车、侦查车、救护车、工程抢险车等各种专用车辆使用。

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Simulate the MEMS thick-resist physical lithography process, and use the physical simulation algorithm and physical model to accurately reflect the SU8 and other thick-resist lithography effects. ◆ Support the four-step simulation of image forming, exposure, post-baking, and development; ◆ Precise lighting model before and after exposure; ◆ Support multi-layer mask file layout settings; ◆ Support fine measurement of 3D display results.

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精准的三维工艺物理模拟工具。 ◆ 模拟工艺流程生成的器件的三维模型,动画形式显示工艺过程； ◆ 支持绝大多数MEMS工艺仿真，包括：各向同性/异性淀积，各向同性/异性刻蚀，湿法刻蚀，键合，光刻以及CMOS工艺中的氧化/注入等； ◆ 高精度模式和快速模式两种仿真模式可选； ◆ Si DRIE和湿法各向异性刻蚀算法源自成熟的单工艺仿真算法模块，历经丰富的实践验证； ◆ 支持III-V族半导体(InP)等多种化合物半导体物理仿真工艺. ◆ 支持spray准各向同性湿法刻蚀工艺 ◆ 基于GPU大规模并行计算 ◆ 采用体素绘制技术，支持旋转、平移、缩放、剖面等功能 ◆ 支持按工艺分层显示，方便观察器件内部结构信息； ◆ 支持PPT、AVI、JPG等多种格式输出。

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Powerful process demonstration tool based on 3D voxel manipulation. ◆ Display the technological process in the form of animation; ◆ Simulate the 3D model of the device after any process step; ◆ Support most MEMS process simulations, including: isotropic/anisotropic deposition, isotropic/anisotropic etching, wet etching, bonding, photolithography, and oxidation/implantation in CMOS processes; ◆ Using voxel graphics technology, more realistic demonstration of three-dimensional complex device structure; ◆ Using volume rendering technology, users can view the internal information of the device through functions such as rotation, translation, zoom, and section; ◆ Use geometric algorithms to simulate deposition and etching processes more realistically;

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The advanced, automatic control-based unit etching simulation technology can obtain accurate <100>, <110> single crystal silicon wafer KOH and TMAH anisotropic etching simulation results, and can also be used for complex layout and long-term etching. ◆ Top, bottom and double-sided etching of wafers; ◆ Multiple cut-off layers and multiple etchings of different masks on a single wafer; ◆ Reflect the impact of misaligned masks, and compensation techniques; ◆ Predict the influence of etchant temperature, concentration and etching time on device shape; ◆ TMAH and KOH etching rate database, users can also customize the etching rate; ◆ To measure the effect of vertical etching in the case of coupled anisotropic etching; ◆ Three-dimensional graphics and cross-section visualization; ◆ Measure the distance and angle between any two points of the wafer after etching;

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